ICC訊 (作者:Pablo Valerio,EETimes特約編輯)中國半導體產(chǎn)業(yè)正處于關鍵階段,正以國家主導的方式加速推進自給自足,并推動本土技術創(chuàng)新。2024年市場規(guī)模已達1828億美元,預計將繼續(xù)快速增長。AI、5G和汽車電子等領域的國內需求成為主要驅動力。中國政府將減少對外部技術依賴視為國家安全的重要議題,特別是在美國等國實施出口限制的背景下。
Georgetown大學安全與新興科技中心的研究顯示,中國在芯片設計與制造領域的論文發(fā)表數(shù)量已是美國的兩倍,反映出科研活躍度的提升。
政府主導的產(chǎn)業(yè)模式
中國政府在半導體發(fā)展中扮演核心角色,通過“大基金”、“中國制造2025”和“十四五”規(guī)劃等政策提供大量資金支持。這種模式結合宏觀層面的國家引導與微觀層面的市場機制,正如經(jīng)濟學家金刻羽在其著作“The New China Playbook”中所指出的那樣,正是中國實現(xiàn)快速技術和經(jīng)濟追趕的關鍵。
雖然一些西方觀察家將此描述為以國有企業(yè)為中心的“國家資本主義”,但實際運行中更傾向于一種政企協(xié)同的合作模式,通過政府與企業(yè)的深度聯(lián)動實現(xiàn)目標。
在制造領域,中國2024年用于晶圓制造設備的支出達到410億美元,占全球總采購量的約40%。中芯國際(SMIC)作為中國大陸領先的代工廠,在先進制程方面取得重要進展。其7nm工藝(N+2)被用于華為麒麟9000s芯片的生產(chǎn),首次出現(xiàn)在Mate 60 Pro智能手機中。
即便沒有ASML的極紫外光(EUV)設備,SMIC仍借助深紫外光(DUV)光刻技術實現(xiàn)了這一突破。有分析認為,SMIC的7nm工藝性能已接近臺積電5nm水平,并正在向基于DUV的5nm節(jié)點邁進。
然而,DUV技術在復雜性、成本和良率方面仍遜于EUV,僅能作為過渡方案。中國目前尚無自主EUV能力,這成為其先進芯片制造的一大瓶頸。發(fā)展國產(chǎn)EUV設備被視為長期競爭力的關鍵,但業(yè)內普遍認為至少還需五到十年才能實現(xiàn)商業(yè)化應用。
國內設備廠商如科益虹源(SiCarrier)正致力于打造完整的國產(chǎn)設備體系,宣稱已具備基于DUV的5nm解決方案,顯示出構建完整生態(tài)系統(tǒng)的決心。
華為的垂直整合
華為在外部壓力下也加快了垂直整合步伐,構建起涵蓋設計、制造、封裝在內的完整國產(chǎn)供應鏈,展現(xiàn)出類似IDM(集成器件制造)企業(yè)的布局。此舉是對美國制裁的直接回應,旨在實現(xiàn)高端芯片的全流程自主可控。
據(jù)稱,華為已在或控制中國境內至少11座晶圓廠,涉及存儲芯片、邏輯芯片和代工服務,若計入研發(fā)中心,相關設施可能多達20處。盡管其Ascend系列AI芯片在性能上可能不及英偉達頂級產(chǎn)品,但“夠用即可”的策略已在中國內部形成一定支撐力。
成熟制程爭奪戰(zhàn)
在推進先進制程的同時,SMIC及整個中國代工行業(yè)也在大力擴張成熟制程(如28nm、40nm、55nm)產(chǎn)能。這種務實策略既能帶來穩(wěn)定收入,也有助于搶占市場份額,并在全球某些不依賴尖端芯片的領域建立依賴關系。
2024年SMIC營收結構中,12英寸晶圓(多為成熟制程)占比高達77%。2025年1月,SMIC對其28nm工藝進行了高達40%的價格下調,凸顯其在該領域的激烈競爭策略。因此,中國代工產(chǎn)業(yè)的戰(zhàn)略呈現(xiàn)出兩條腿走路的格局:一方面追求先進節(jié)點以實現(xiàn)戰(zhàn)略自主,另一方面則在成熟節(jié)點上展開價格戰(zhàn)。
封裝與材料進展
除了硅基制造,中國還在先進封裝技術上加大投入。長電科技(JCET)、通富微電子、華天慧創(chuàng)等企業(yè)在芯片堆疊(chiplets)、2.5D/3D集成、扇出型晶圓級封裝(FOWL)等方面不斷提升能力。
盡管先進封裝是提升芯片性能的一種替代路徑,但其實現(xiàn)規(guī)模化量產(chǎn)仍依賴本地材料與設備供應鏈的完善。目前中國在這些領域的基礎仍相對薄弱,要追上國際領先水平仍需時間。
高端材料的供應也是短板之一。例如,在亞太地區(qū)的光刻膠市場中,中國雖為重要參與者,但在包括氟化氬激光(ArF)等多種配方的研發(fā)和供應方面仍在努力追趕。
全球市場或現(xiàn)分化
中國的半導體自立戰(zhàn)略對全球產(chǎn)業(yè)格局和地緣政治產(chǎn)生深遠影響。美國及其盟友不斷加強出口管制,試圖遏制中國獲取先進芯片、設計工具及關鍵設備,尤其是EUV光刻機。
作為回應,中國大幅增加國內研發(fā)投入,啟動全面的自給自足計劃,包括巨額國家資助和利用已有DUV設備進行創(chuàng)新。同時,中國還采取反制措施,如對鎵、鍺等關鍵材料實施出口管控,并加強對外國科技公司的安全審查。
對中國以外的跨國企業(yè)而言,這構成了一個“創(chuàng)新困境”:短期內失去中國市場,而長期則面臨中國本土企業(yè)通過補貼和技術進步逐步取代其在全球價值鏈中的地位。應對策略可能包括以“夠用即可”的DUV技術滿足國內需求,或在成熟節(jié)點上發(fā)揮成本優(yōu)勢,而非一味追求最前沿技術。
中國的崛起也可能導致全球半導體市場出現(xiàn)“分裂”。通過先進封裝等手段提升系統(tǒng)性能,中國有望從過去以組裝、測試、封裝為主的角色,轉向更多參與芯片設計與制造。不過,它更可能成為一個區(qū)域性、自我依賴的強大力量,而非在所有領域都具備全球主導地位。
挑戰(zhàn)與前景
盡管取得諸多進展,中國半導體產(chǎn)業(yè)仍面臨制造良率低、成本競爭力不足和人才短缺等問題。2020年中國芯片自給率僅為約16%,要在2025年達到70%、2030年實現(xiàn)100%的目標極具挑戰(zhàn)。
這些目標更可能是象征性的愿景,而非嚴格可實現(xiàn)的硬性指標,最終或將調整方向或聚焦重點細分領域。
未來五年至七年的發(fā)展路徑預計將呈現(xiàn)漸進式本土進步與全球市場分化的并行趨勢。中國將在DUV工藝、設備、材料和先進封裝等領域持續(xù)提升,逐步在成熟和中端市場實現(xiàn)更高程度的自給自足,并成為全球范圍內不可忽視的競爭者。
中國半導體的發(fā)展之路,是一場國家意志、巨額投資、工程智慧與持續(xù)的地緣政治與技術壓力之間的復雜博弈。
原文:https://www.eetimes.com/china-semiconductor-ambition-and-adversity/