德力光電攜高端測(cè)試儀器參展日本OPIE 2026 國(guó)產(chǎn)高端光電測(cè)試儀器亮相國(guó)際平臺(tái)

  ICC訊   4月22日至24日，2026年日本橫濱國(guó)際光學(xué)與光電技術(shù)展覽會(huì)（OPIE）將在橫濱盛大開(kāi)幕。作為國(guó)家級(jí)專(zhuān)精特新“小巨人”企業(yè)，德力光電科技（天津）有限公司將攜旗下光譜分析儀、可調(diào)諧激光光源、高性能光萬(wàn)用表等核心自研產(chǎn)品重磅參展（展位號(hào)：M-07），以精湛技術(shù)實(shí)力，向全球業(yè)界展示公司在高端光電測(cè)試儀器領(lǐng)域的突破與成果。

  據(jù)了解，OPIE展會(huì)是日本規(guī)模最大、覆蓋面最廣的光電、激光、光學(xué)及傳感技術(shù)專(zhuān)業(yè)展，每年匯聚全球眾多一流供應(yīng)商與專(zhuān)業(yè)采購(gòu)商，是光電領(lǐng)域技術(shù)交流與商貿(mào)合作的核心平臺(tái)。此次參展，是德力光電深耕光通信測(cè)試領(lǐng)域、加速?lài)?guó)際化布局的重要一步。

  作為依托母公司德力儀器三十余年技術(shù)積淀成長(zhǎng)的高新技術(shù)企業(yè)，德力光電專(zhuān)注光通信與光電測(cè)試儀器研發(fā)，已實(shí)現(xiàn)從“跟跑”到“并跑”的跨越，其光譜分析儀銷(xiāo)量位居全球前列，成為國(guó)產(chǎn)替代標(biāo)桿。本次參展的三大核心產(chǎn)品，精準(zhǔn)對(duì)標(biāo)國(guó)際先進(jìn)水平。

光譜分析儀

  此次展出的高性能光譜分析儀，最大分辨率＜10pm，波長(zhǎng)覆蓋800–1650nm，功率靈敏度達(dá)-85dBm，集DFB/FP激光器測(cè)試、WDM/EDFA系統(tǒng)測(cè)試、透過(guò)率分析等多功能于一體。產(chǎn)品配備網(wǎng)口、USB、GP-IB等多接口，支持自動(dòng)化測(cè)試系統(tǒng)搭建，可與國(guó)外同類(lèi)產(chǎn)品無(wú)縫替換。

可調(diào)諧激光光源

  可調(diào)諧激光光源則應(yīng)用了德力光電在光、機(jī)、電等領(lǐng)域多年的成熟技術(shù)，調(diào)諧范圍1480–1640nm，掃描速度＞100nm/s。產(chǎn)品通過(guò)精心設(shè)計(jì)的激光腔體與超低噪聲電路基板，實(shí)現(xiàn)了寬波長(zhǎng)范圍、高光功率、低噪聲、窄線寬以及快速無(wú)跳模掃描等優(yōu)良特性，能夠適配光器件、光模塊、光纖傳輸全場(chǎng)景測(cè)試。

高性能光萬(wàn)用表

  AE908高性能光萬(wàn)用表作為模塊化插卡式的綜合測(cè)試平臺(tái)，設(shè)有8個(gè)功能卡槽，可自由搭載多種光測(cè)量模塊，靈活搭建適配客戶(hù)需求的測(cè)試系統(tǒng)。該產(chǎn)品支持以太網(wǎng)控制，具備準(zhǔn)確度高、穩(wěn)定性好、響應(yīng)快、易操作等優(yōu)勢(shì)，十分適用于光模塊、光器件的設(shè)計(jì)及量產(chǎn)測(cè)試工作。

  憑借光、機(jī)、電、算一體化技術(shù)優(yōu)勢(shì)，德力光電已形成完整測(cè)試儀器矩陣，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于光通信、硅光子集成、科研計(jì)量等領(lǐng)域。此次亮相OPIE 2026，不僅展現(xiàn)國(guó)產(chǎn)儀器的硬核實(shí)力，更將推動(dòng)中國(guó)高端光電裝備走向國(guó)際、服務(wù)全球。

  展會(huì)期間，德力光電（展位M-07）誠(chéng)邀全球客戶(hù)、合作伙伴蒞臨洽談，共探光電測(cè)試技術(shù)新未來(lái)。